據(jù)深圳清溢光電股份有限公司官微消息，4月10日，佛山清溢光電高精度掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目現(xiàn)場(chǎng)順利舉行首臺(tái)曝光機(jī)搬入儀式，標(biāo)志著佛山清溢光電高精度掩膜版生產(chǎn)基地正式進(jìn)入設(shè)備搬入及安裝調(diào)試階段。

據(jù)了解，清溢光電此次在佛山布局的全新生產(chǎn)基地總投資35億元‌，該基地的規(guī)劃涵蓋了高精度掩膜版生產(chǎn)項(xiàng)目與高端半導(dǎo)體掩膜版的生產(chǎn)項(xiàng)目。其中，高精度掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目‌總投資20億元人民幣‌‌，規(guī)劃年產(chǎn)能達(dá)2萬(wàn)片，將填補(bǔ)華南地區(qū)高端掩膜版生產(chǎn)的空白，助力國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈自主可控。

公司項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)將以首臺(tái)主設(shè)備搬入作為契機(jī)，全面展開設(shè)備聯(lián)調(diào)與工藝驗(yàn)證，加速推進(jìn)竣工驗(yàn)收流程，嚴(yán)格把控節(jié)點(diǎn)目標(biāo)，確保項(xiàng)目如期試產(chǎn)投產(chǎn)。按照計(jì)劃，佛山清溢光電將于2025年底實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。未來(lái)還將布局研發(fā)中心，聯(lián)合高校、科研院所攻關(guān)下一代半導(dǎo)體材料技術(shù)，為“中國(guó)芯”注入更強(qiáng)動(dòng)能。