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總投資額約11.4億 芯越微、正帆科技半導(dǎo)體項(xiàng)目落戶合肥

發(fā)表于:2025-04-08 來源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 編輯:

?據(jù)合肥新站區(qū)消息,4月3日,合肥新站高新區(qū)與芯越微、正帆科技正式簽約。

據(jù)悉,芯越微電子材料(嘉興)有限公司主要從事功能性微電子材料(濕電子化學(xué)品)研發(fā)生產(chǎn)銷售,核心產(chǎn)品應(yīng)用于高端半導(dǎo)體及面板行業(yè)的多個(gè)關(guān)鍵工藝,其中顯影液、刻蝕液、光刻膠剝離液等產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),公司致力于打破國內(nèi)功能性微電子材料被外資品牌壟斷的局面,早日實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代。簽約的功能性微電子材料項(xiàng)目總投資3億元,用地面積約32.5畝,從事顯影液、刻蝕液、光刻膠剝離液、清洗液、拋光液的生產(chǎn)制造,預(yù)計(jì)達(dá)產(chǎn)后年產(chǎn)值約5億元。

上海正帆科技股份有限公司主要從事制程關(guān)鍵系統(tǒng)與裝備、核心材料的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,以及供應(yīng)鏈管理、檢測與數(shù)據(jù)等業(yè)務(wù)。產(chǎn)品覆蓋集成電路、太陽能光伏、平板顯示、光纖制造和生物制藥等領(lǐng)域。簽約項(xiàng)目總投資約8.4億元,占地約50畝,計(jì)劃建設(shè) ALD (原子層沉積)先進(jìn)涂層材料及研發(fā)中心、超高純大宗氣體項(xiàng)目,其中ALD (原子層沉積)先進(jìn)涂層材料可用于新型顯示、汽車、光伏等領(lǐng)域。

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