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一批半導體項目簽約衢州 涉及氧化鎵、氮化鋁單晶襯底等

發表于:2025-02-08 來源:半導體產業網 編輯:

 2月5日,衢州市委召開“工業強市、產業興市”打造高質量發展建設共同富裕示范區市域樣板推進會。會上共有76個項目簽約,計劃總投資594.5億元。其中:現場集中簽約項目26個,計劃總投資451.5億元;場外簽約項目50個,計劃總投資143億元。 

現場集中簽約項目中涉及多個半導體相關項目,包括浙江芯谷半導體產業園、半導體核心零部件項目、氮化鋁單晶襯底項目、6英寸化合物襯底項目。 

浙江芯谷半導體產業園 

項目計劃總投資17.7億元,用地面積221畝,建設浙江芯谷半導體產業園。達產后預計可實現年營業收入18億元,年稅收9000萬元。

 半導體核心零部件項目 

項目計劃總投資10億元,租賃廠房54000平方米,建設年產20萬支疊層型壓電陶瓷致動器、10萬片大功率壓電陶瓷換能片、3100枚硅零部件硅環/硅噴淋頭、10.5萬套半導體核心零部件項目。達產后預計可實現年營業收入6.6億元,年稅收6500萬元。 

氮化鋁單晶襯底項目 

項目計劃總投資10億元,用地面積150畝,建設年產5萬片2-6英寸AlN單晶襯底生產線。達產后預計可實現年營業收入10億元,年稅收1.5億元。 

6英寸化合物(砷化鎵、磷化銦、氧化鎵)襯底項目 

項目計劃總投資10億元,用地面積30畝,建設廠房約2萬平方米,主要建設6英寸化合物襯底生產線。達產后預計可實現年營業收入10億元,年稅收5000萬元。 

(來源:衢州發布、市招商投資促進中心)

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